微(wei)區掃(sao)描X射線(xian)熒(ying)光(guang)光(guang)譜儀

技(ji)術(shu)參數：

?  10 µm 的(de) X 射線(xian)高(gao)強(qiang)度、高(gao)速(su)度的(de)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)。

    樣(yang)品(pin)可(ke)以置(zhi)於大(da)氣(qi)中(zhong)分(fen)析(xi)，的(de)真(zhen)空探(tan)針方(fang)式(shi)。

?  同軸(zhou)觀(guan)察(cha)，可(ke)以從攝像(xiang)系(xi)統中(zhong)選(xuan)取(qu)所需(xu)的(de)測(ce)量點，單(dan)鍵控制(zhi)，放(fang)大(da)倍(bei)數可(ke)至(zhi) 100 倍(bei)。

?  可(ke)以對物質表(biao)面和內(nei)部(bu)構造(zao)同時進(jin)行分(fen)析(xi)。

?  主要(yao)應(ying)用(yong)：WEEE/RoHS 法(fa)令(ling)中(zhong)涉及的(de)產品有害(hai)元(yuan)素(su)的(de)測(ce)定(ding)、珠(zhu)寶首飾的(de)成(cheng)份(fen)檢(jian)測、電(dian)子電(dian)路板(ban)的(de)微(wei)區分(fen)析(xi)、考古或(huo)博物館中(zhong)對(dui)古(gu)物的(de)分(fen)析(xi)

?  同時也(ye)滿足(zu)科研院校在常(chang)規(gui)元(yuan)素(su)檢(jian)測(ce)方面的(de)要(yao)求(qiu)

    可(ke)進(jin)行樣(yang)品(pin)內(nei)部(bu)從(cong)Na~ U的(de)元(yuan)素(su)進(jin)行定(ding)性(xing)、定(ding)量分(fen)析(xi)
2、X射線(xian)透射成(cheng)像(xiang)，可(ke)觀(guan)察(cha)樣(yang)品(pin)內(nei)部(bu)細(xi)微構造(zao)
3、多(duo)點自動分(fen)析(xi)，壹(yi)次可(ke)測(ce)99點
4、能(neng)做小至(zhi)10μm的(de)微(wei)區
5、兩(liang)種(zhong)X射線(xian)聚焦導管快速(su)切(qie)換，可(ke)選(xuan)1.2mm和10μm或100μm
6、X射線(xian)與可(ke)見(jian)光(guang)同軸(zhou)設(she)計，真正做(zuo)到(dao)準(zhun)確(que)定(ding)位(wei)測試部(bu)位，見(jian)即所得(de)。
7、高(gao)純(chun)矽檢(jian)測器(qi)，保(bao)證高(gao)穩定(ding)性(xing)及良(liang)好(hao)的(de)性(xing)能(neng)