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        1. Product Center

          產品中(zhong)心

          當(dang)前(qian)位置:首(shou)頁  >  產品中(zhong)心  >  HORIBA(過程&環(huan)境(jing))  >  

          • DIGILEM-CPM-Xe/Halogen實時(shi)膜(mo)厚檢(jian)測儀(yi)

            產地類(lei)別(bie) 進(jin)口 應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 建材,電(dian)子,汽(qi)車(che),電(dian)氣(qi) 實時(shi)的(de)幹涉(she)測量(liang)設(she)備,提(ti)供蝕(shi)刻/鍍膜(mo)制(zhi)程中(zhong)高(gao)精(jing)度(du)的(de)膜(mo)厚及蝕(shi)刻溝深度檢(jian)測。單(dan)色光(guang)打(da)在(zai)樣品表面,由於(yu)膜(mo)厚和(he)高度變化(hua)導(dao)致(zhi)不同的(de)光(guang)路(lu)長度(du)時(shi),使(shi)用(yong)幹涉(she)測量(liang)法。通過循環,系(xi)統(tong)能(neng)在(zai)監控區使(shi)用(yong)實時(shi)監測的(de)方法計算蝕(shi)刻和(he)鍍膜(mo)的(de)速(su)度(du),在(zai)規(gui)定(ding)的(de)膜(mo)厚和(he)槽深來進(jin)行(xing)終(zhong)點檢(jian)測。基(ji)於(yu)這個相(xiang)對簡單的(de)理(li)論(lun),系(xi)統(tong)不但非常穩(wen)定(ding),並(bing)且(qie)可(ke)用(yong)於(yu)復(fu)雜的(de)多(duo)層薄膜(mo)。

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          • DS-50系(xi)列(lie)電導(dao)率(lv)計(臺(tai)式(shi))

            價格區間(jian) 面議(yi) 檢(jian)測參(can)數(shu) 多(duo)參(can)數(shu) 儀器(qi)種類 臺(tai)式(shi) 應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 環(huan)保,化(hua)工(gong),石油,能(neng)源(yuan) ......

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):DS-50系(xi)列(lie)
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          • LEM-CT-670-G50實時(shi)膜(mo)厚檢(jian)測儀(yi)

            產地類(lei)別(bie) 進(jin)口 應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 建材,電(dian)子,汽(qi)車(che),電(dian)氣(qi) 概(gai)要實時(shi)的(de)幹涉(she)測量(liang)設(she)備,提(ti)供蝕(shi)刻/鍍膜(mo)制(zhi)程中(zhong)高(gao)精(jing)度(du)的(de)膜(mo)厚及蝕(shi)刻溝深度檢(jian)測。單(dan)色光(guang)打(da)在(zai)樣品表面,由於(yu)膜(mo)厚和(he)高度變化(hua)導(dao)致(zhi)不同的(de)光(guang)路(lu)長度(du)時(shi),使(shi)用(yong)幹涉(she)測量(liang)法。通過循環,系(xi)統(tong)能(neng)在(zai)監控區使(shi)用(yong)實時(shi)監測的(de)方法計算蝕(shi)刻和(he)鍍膜(mo)的(de)速(su)度(du),在(zai)規(gui)定(ding)的(de)膜(mo)厚和(he)槽深來進(jin)行(xing)終(zhong)點檢(jian)測。基(ji)於(yu)這個相(xiang)對簡單的(de)理(li)論(lun),系(xi)統(tong)不但非常穩(wen)定(ding),並(bing)且(qie)可(ke)用(yong)於(yu)復(fu)雜的(de)多(duo)層薄膜(mo)。

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):LEM-CT-670-G50
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          • MICROPOLE系(xi)統(tong)殘余氣(qi)體(ti)分析(xi)儀(yi)

            產地類(lei)別(bie) 進(jin)口 應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 環(huan)保,生(sheng)物產業(ye),石(shi)油,能(neng)源(yuan),電子 微型殘余氣(qi)體(ti)分析(xi)儀(yi)是壹種(zhong)較小(xiao)的(de)質(zhi)量能(neng)譜(pu)儀(yi)分析(xi)系(xi)統(tong)。通過享有的(de)小(xiao)型化(hua)設(she)計將(jiang)四電(dian)極質量(liang)過濾(lv)器進(jin)行(xing)排(pai)列(lie),從(cong)而獲(huo)得了緊(jin)湊(cou)尺(chi)寸。這種排(pai)列(lie)方式(shi)可(ke)以(yi)提供相(xiang)近或(huo)者(zhe)更好(hao)的(de)靈(ling)敏度。

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):MICROPOLE系(xi)統(tong)
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          • TPNA-300自(zi)動總氮・總磷檢(jian)測裝置(zhi)

            應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 環(huan)保,化(hua)工(gong),農業(ye),石(shi)油,能(neng)源(yuan) 自(zi)動總氮・總磷檢(jian)測裝置(zhi) TPNA-300總氮・總磷。滿(man)足總量(liang)控制(zhi)要求。

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):TPNA-300
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          • LA-950V激(ji)光(guang)散射顆粒(li)度分布測試(shi)儀(yi)

            產地類(lei)別(bie) 進(jin)口 應(ying)用(yong)領(ling)域(yu) 化(hua)工(gong),石油,建材,電(dian)子,汽(qi)車(che) HORIBA的(de)粒(li)度分布檢(jian)測裝置(zhi)LA系(xi)列(lie)中(zhong)高(gao)性(xing)能(neng)機種(zhong)新(xin)登(deng)場(chang)。實現(xian)了目前(qian)業(ye)內(nei)高(gao)的(de)檢(jian)測精(jing)度(du)和(he)速(su)度(du),檢(jian)測從(cong)亞微米到(dao)毫米級(ji)的(de)粉(fen)體(ti)等各(ge)種“粒(li)的(de)大(da)小(xiao)" 。

            更新日(ri)期:2023-07-27
            型號(hao):LA-950V
            廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商(shang)
          共 170 條(tiao)記(ji)錄,當前(qian) 17 / 29 頁  首(shou)頁  上(shang)壹頁  下壹頁  末頁  跳(tiao)轉到(dao)第頁 
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